Die Quantenempfindlichkeit der Uranyloxalatphotolyse

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Autor(in)
Büchi, Paul Felix
Datum
1924
Typ
    Doctoral Thesis
Rechte / Lizenz
In Copyright - Non-Commercial Use Permitted
Persistenter Link
https://doi.org/10.3929/ethz-a-000099659
Publikationsstatus
published
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Beteiligte
Referent: Baur, Emil
Referent: Treadwell, William D.
Zeitschrift / Serie
Sammelband ETH-BIB
Verlag
ETH Zürich
Thema
URANVERBINDUNGEN (ANORGANISCHE CHEMIE); OXALSÄURE + OXALATE + OXALSÄURESTICKSTOFFDERIVATE + OXALSÄURESCHWEFELDERIVATE (ALIPHATISCHE POLYCARBONSÄUREN); PHOTOLYSE (PHOTOCHEMIE); URANIUM COMPOUNDS (INORGANIC CHEMISTRY); OXALIC ACID + OXALATES + OXALIC ACID NITROGEN DERIVATIVES + OXALIC ACID SULFUR DERIVATIVES (ALIPHATIC POLYCARBOXYLIC ACIDS); PHOTOLYSIS (PHOTOCHEMISTRY)
Anmerkungen
SA aus: Zeitschrift für physikalische Chemie, Band 111, Heft 3-4, S.269-314. Diss. Techn.Wiss. ETH Zürich, Nr. 372, 1924. Ref.: Baur, E. ; Korref.: Treadwell, W.D..
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