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dc.contributor.author
Schnabel, Volker
dc.contributor.author
Sologubenko, Alla S.
dc.contributor.author
Danzi, Stefano
dc.contributor.author
Kurtuldu, Güven
dc.contributor.author
Spolenak, Ralph
dc.date.accessioned
2017-12-20T15:01:05Z
dc.date.available
2017-11-04T04:11:54Z
dc.date.available
2017-12-20T15:01:05Z
dc.date.issued
2017
dc.identifier.issn
0003-6951
dc.identifier.issn
1077-3118
dc.identifier.other
10.1063/1.5003219
en_US
dc.identifier.uri
http://hdl.handle.net/20.500.11850/204522
dc.language.iso
en
en_US
dc.publisher
American Institute of Physics
en_US
dc.title
Controlling diffusion in Ni/Al reactive multilayers by Nb-alloying
en_US
dc.type
Journal Article
dc.date.published
2017-10-23
ethz.journal.title
Applied Physics Letters
ethz.journal.volume
111
en_US
ethz.journal.issue
17
en_US
ethz.journal.abbreviated
Appl. phys. lett.
ethz.pages.start
173902
en_US
ethz.size
5 p.
en_US
ethz.identifier.wos
ethz.identifier.scopus
ethz.publication.place
Melville, NY
en_US
ethz.publication.status
published
en_US
ethz.leitzahl
ETH Zürich::00002 - ETH Zürich::00012 - Lehre und Forschung::00007 - Departemente::02160 - Dep. Materialwissenschaft / Dep. of Materials::02645 - Institut für Metallforschung / Institute of Metals Research::03692 - Spolenak, Ralph / Spolenak, Ralph
en_US
ethz.leitzahl
ETH Zürich::00002 - ETH Zürich::00003 - Schulleitung und Dienste::00022 - Bereich VP Forschung / Domain VP Research::02891 - ScopeM / ScopeM
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ethz.date.deposited
2017-11-04T04:12:00Z
ethz.source
SCOPUS
ethz.eth
yes
en_US
ethz.availability
Metadata only
en_US
ethz.rosetta.installDate
2017-12-20T15:01:06Z
ethz.rosetta.lastUpdated
2020-02-15T10:34:06Z
ethz.rosetta.versionExported
true
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