A Patterning-Based Strain Engineering for Sub-22 nm Node FinFETs - Research Collection

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Autor(in)

Minamisawa, R. A.

Datum

2014

Typ

Journal Article

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Publikationsstatus

published

Externe Links

https://doi.org/10.1109/LED.2014.2300865

Zeitschrift / Serie

IEEE Electron Device Letters

Band

35(3)

Seiten / Artikelnummer

300 - 302

Verlag

IEEE

Thema

Strained Si; FinFet

Organisationseinheit

03692 - Spolenak, Ralph / Spolenak, Ralph

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