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A Patterning-Based Strain Engineering for Sub-22 nm Node FinFETs
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Metadata only
Autor(in)
Schmidt, M.
Suess, M. J.
Barros, A. D.
Geiger, R.
Sigg, H.
Spolenak, R.
Minamisawa, R. A.
Alle anzeigen
Datum
2014
Typ
Journal Article
Zitate
9 Zitate in
Web of Science
ETH Bibliographie
yes
Altmetrics
Publikationsstatus
published
Externe Links
https://doi.org/10.1109/LED.2014.2300865
Zeitschrift / Serie
IEEE Electron Device Letters
Band
35
(3)
Seiten / Artikelnummer
300
-
302
Verlag
IEEE
Thema
Strained Si; FinFet
Organisationseinheit
03692 - Spolenak, Ralph / Spolenak, Ralph
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