Controlling diffusion in Ni/Al reactive multilayers by Nb-alloying
dc.contributor.author
Schnabel, Volker
dc.contributor.author
Sologubenko, Alla
dc.contributor.author
Danzi, Stefano
dc.contributor.author
Kurtuldu, Güven
dc.contributor.author
Spolenak, Ralph
dc.date.accessioned
2017-12-20T15:01:05Z
dc.date.available
2017-11-04T04:11:54Z
dc.date.available
2017-12-20T15:01:05Z
dc.date.issued
2017
dc.identifier.issn
0003-6951
dc.identifier.issn
1077-3118
dc.identifier.other
10.1063/1.5003219
en_US
dc.identifier.uri
http://hdl.handle.net/20.500.11850/204522
dc.language.iso
en
en_US
dc.publisher
American Institute of Physics
en_US
dc.title
Controlling diffusion in Ni/Al reactive multilayers by Nb-alloying
en_US
dc.type
Journal Article
dc.date.published
2017-10-23
ethz.journal.title
Applied Physics Letters
ethz.journal.volume
111
en_US
ethz.journal.issue
17
en_US
ethz.journal.abbreviated
Appl. Phys. Lett.
ethz.pages.start
173902
en_US
ethz.size
5 p.
en_US
ethz.identifier.wos
ethz.identifier.scopus
ethz.publication.place
Melville, NY
en_US
ethz.publication.status
published
en_US
ethz.leitzahl
ETH Zürich::00002 - ETH Zürich::00012 - Lehre und Forschung::00007 - Departemente::02160 - Dep. Materialwissenschaft / Dep. of Materials::02645 - Institut für Metallforschung / Institute of Metals Research::03692 - Spolenak, Ralph / Spolenak, Ralph
en_US
ethz.leitzahl
ETH Zürich::00002 - ETH Zürich::00003 - Schulleitung und Dienste::00022 - Bereich VP Forschung / Domain VP Research::02891 - ScopeM / ScopeM
ethz.leitzahl
ETH Zürich::00002 - ETH Zürich::00012 - Lehre und Forschung::00007 - Departemente::02160 - Dep. Materialwissenschaft / Dep. of Materials::02645 - Institut für Metallforschung / Institute of Metals Research::03661 - Löffler, Jörg F. / Löffler, Jörg F.
ethz.leitzahl.certified
ETH Zürich::00002 - ETH Zürich::00012 - Lehre und Forschung::00007 - Departemente::02160 - Dep. Materialwissenschaft / Dep. of Materials::02645 - Institut für Metallforschung / Institute of Metals Research::03692 - Spolenak, Ralph / Spolenak, Ralph
ethz.leitzahl.certified
ETH Zürich::00002 - ETH Zürich::00003 - Schulleitung und Dienste::00022 - Bereich VP Forschung / Domain VP Research::02891 - ScopeM / ScopeM
ethz.leitzahl.certified
ETH Zürich::00002 - ETH Zürich::00012 - Lehre und Forschung::00007 - Departemente::02160 - Dep. Materialwissenschaft / Dep. of Materials::02645 - Institut für Metallforschung / Institute of Metals Research::03661 - Löffler, Jörg F. / Löffler, Jörg F.
ethz.date.deposited
2017-11-04T04:12:00Z
ethz.source
SCOPUS
ethz.eth
yes
en_US
ethz.availability
Metadata only
en_US
ethz.rosetta.installDate
2017-12-20T15:01:06Z
ethz.rosetta.lastUpdated
2024-02-02T03:34:28Z
ethz.rosetta.versionExported
true
ethz.COinS
ctx_ver=Z39.88-2004&rft_val_fmt=info:ofi/fmt:kev:mtx:journal&rft.atitle=Controlling%20diffusion%20in%20Ni/Al%20reactive%20multilayers%20by%20Nb-alloying&rft.jtitle=Applied%20Physics%20Letters&rft.date=2017&rft.volume=111&rft.issue=17&rft.spage=173902&rft.issn=0003-6951&1077-3118&rft.au=Schnabel,%20Volker&Sologubenko,%20Alla&Danzi,%20Stefano&Kurtuldu,%20G%C3%BCven&Spolenak,%20Ralph&rft.genre=article&rft_id=info:doi/10.1063/1.5003219&
Files in this item
| Files | Size | Format | Open in viewer |
|---|---|---|---|
|
There are no files associated with this item. |
|||
Publication type
-
Journal Article [128916]