Normal incidence collector for LPP sources with integrated debris mitigation
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Datum
2010Typ
- Conference Paper
ETH Bibliographie
yes
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Buchtitel
Extreme ultraviolet (EUV) lithography : 22-25 February 2010, San Jose, California, United StatesBand
Seiten / Artikelnummer
Verlag
SPIEKonferenz
Thema
EUVL; LPP; Debris mitigation; Thermal deformationOrganisationseinheit
03548 - Abhari, Reza S. / Abhari, Reza S.
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